中文：幹涉光刻；英文：interference lithography

解釋
中文：幹涉光刻；英文：interference lithography的原理；中文：幹涉光刻；英文：interference lithography的定義；中文：幹涉光刻；英文：interference lithography是什麽。
 利用雙光束、多光束的幹涉圖樣，一次曝光或者多次曝光實現的一種無掩模光刻工藝。常用於周期圖形的製備，如周期性光柵、孔陣、點陣、柱陣等圖形。