中文:無掩模光刻;英文:maskless lithography

解釋
中文:無掩模光刻;英文:maskless lithography的原理;中文:無掩模光刻;英文:maskless lithography的定義;中文:無掩模光刻;英文:maskless lithography是什麽。
一種不采用光刻掩模的光刻工藝。例如,①帶電粒子無掩模光刻:電子束直寫工藝過程、離子束直寫工藝過程等;②光學無掩模光刻:激光直寫、幹涉光刻工藝過程等。
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