改變光波導的折射率)。然而，由於(yu) 大多數光電材料的熱光係數相對較小，產(chan) 生相位變化通常需要數十至數百微米數量級的路徑長度。處理位的數據，需要個(ge) 移相器，隨著數據量的增加，這種方案可能會(hui) 導致係統結構過大。此外，相位變化生效所需的時間相對較長，大約為(wei) 數十微秒，這會(hui) 限製片上(on chip)訓練過程的速度(因為(wei) 需要頻繁地改變相位來計算梯度)。最近的一些工作旨在利用光學快速傅立葉變換 (OFFT)、環形諧振器、聲光調製器和3D打印的替代架構來解決(jue) 這些問題。其它基於(yu) 相變材料、電吸收和電光效應的方法也可以解決(jue) 其中的一些問題，但這些技術仍未成熟。當前不足：傳(chuan) 統的光學神經網絡(optical neural netw ...
偽(wei) 影。組織中折射率的不均勻分布會(hui) 導致嚴(yan) 重的光學像差，從(cong) 而降低圖像分辨率和信噪比(SNR)。強光劑量會(hui) 幹擾正常的細胞行為(wei) 和細胞器功能，導致活體(ti) 成像的光子劑量有限，即信噪比低，時間分辨率也會(hui) 下降。為(wei) 了解決(jue) 組織長時間高時空分辨率監測非常困難的問題，研究人員開發出了各種各種的技術手段。過去的十年中，亞(ya) 細胞活體(ti) 顯微鏡有了大幅的發展，例如轉盤共聚焦顯微鏡、自適應光學(AO)、高速雙光子顯微鏡和光片顯微鏡(LSM)，它們(men) 與(yu) 新的動物模型一起促進了神經科學、發育生物學、免疫學和癌症生物學領域的各種研究。然而，在分辨率、速度、SNR和樣本健康之間存在難以躲避的矛盾，這在實時熒光成像中被稱為(wei) “挫折金字塔(pyram ...
接近透明，其折射率接近2，這遠大於(yu) 普通玻璃材料。因此氮化矽材料適合用於(yu) 設計高效超表麵。氮化矽納米柱的高度全為(wei) 700nm，矩形晶格周期為(wei) 500nm，半徑在90到188nm之間。納米柱的仿真使用有限差分時域(FDTD)法。選擇了6個(ge) 合適的半徑加工，氮化矽納米矽的透射係數和相位響應與(yu) 在633nm時納米柱半徑的關(guan) 係見圖2B。圖2C和D是加工結果的掃描電鏡圖像。圖2、動態 SCMH 的實現。刻度條,1um實驗結果：視頻1、動態空間通道複用超全息圖顯示結果視頻2、動態空間通道選擇超全息圖顯示結果視頻3、動態三維空間通帶選擇超全息圖顯示結果附錄：光路，DMD為(wei) DLP6500FYE參考文獻：H. Gao, Y ...
方麵。在階躍折射率光纖中，可以根據輸入光線定義(yi) 數值孔徑，其中在纖芯-包層界麵處可能發生全內(nei) 反射的最大角度：入射光線首先被折射，然後在纖芯-包層界麵發生全內(nei) 反射。 然而，這隻有在入射角不太大的情況下才有效。光纖的數值孔徑 (NA) 是允許的入射光線相對於(yu) 光纖軸的最大角度的正弦值。它可以通過纖芯和包層之間的折射率差來計算，更準確地說，具有以下關(guan) 係：請注意，NA 與(yu) 光纖周圍介質的折射率無關(guan) 。例如，對於(yu) 折射率較高的輸入介質，最大輸入角度會(hui) 更小，但數值孔徑保持不變。上麵給出的等式僅(jin) 適用於(yu) 直纖維。對於(yu) 彎曲光纖，可以使用一個(ge) 近似修正方程，其中還包含彎曲半徑 R 和纖芯半徑：對於(yu) 不具有階躍折射率分布的光纖或其 ...
光具有不同的折射率,波長短者折射率大。 光學係統多半用白光成像，白光入射於(yu) 任何形狀的介質分界麵時，隻要入射角不為(wei) 零,各種色光將因色散而有不同的傳(chuan) 播途徑,結果導致各種色光有不同的成像位置和不同的成像倍率。這種成像的色差異稱為(wei) 色差。通常用兩(liang) 種按接收器的性質而選定的單色光來描達色差。對於(yu) 目視光學係統，都選為(wei) 藍色的 F光和紅色的C光。色差有兩(liang) 種。其中描述這兩(liang) 種色光對軸上物點成像位置差異的色差稱為(wei) 位置色差或軸向色差,因不同色光成像倍率的不同而造成物體(ti) 的像大小差異的色差稱為(wei) 倍率色差或垂軸色差。如下圖,軸上點A發出一束近軸白光,經光學係統後，其中F光交光軸於(yu) A'F,C光交光 軸於(yu) A'C。 ...
源，通過梯度折射率多模光纖（包層直徑125um,纖芯直徑62.5um）進行偏振分辨二次諧波生成成像。在成像之前需要用校準單元使用幹涉測量的方式對通過光纖的光進行校準，此過程大約需要5分鍾。校準信息得到後，可以通過將適當形狀的波前耦合到光纖中產(chan) 生聚焦點。每個(ge) 聚焦點位置對應一個(ge) 空間光調製器（SLM）上的特定圖案。SLM序列顯示不同的圖案，實現在距多模光纖出光口15um的平麵上進行聚焦點掃描（模擬激光掃描顯微鏡）。成像時，移除校準單元，二向色鏡將後向散射回光纖的二次諧波生成信號反射進入光電倍增管進行成像。實驗證明：（1）小鼠尾腱上兩(liang) 個(ge) 區域Ⅰ和Ⅱ的線偏振二次諧波生成成像結果。（a)圖從(cong) 上到下分別是所有 ...
介質中的微觀折射率不均勻引起的光學散射使得入射光的（行走）路徑隨機化，這對有效傳(chuan) 遞光強造成了巨大的挑戰。為(wei) 了克服這一挑戰，（研究人員）正在積極開發和国产成人在线观看免费网站波前整形（wavefront shaping, WFS）方法來將光聚焦到或穿透散射介質。WFS通過調製入射波前使得不同行走路徑的散射光子在目標位置相長幹涉。WFS技術可以分為(wei) 三類：基於(yu) 反饋的波前整形、傳(chuan) 輸矩陣求逆、光相位共軛（optical phase conjugation, OPC）或光時間反轉（optical time reversal）。前兩(liang) 類通過一般需要數千次測量的迭代過程來確定調製波前，這導致係統運行時間相當長。基於(yu) OPC的WFS方 ...
性電光效應是折射率的變化，它與(yu) 外加電場的大小成正比。1 外加電場對折射率的影響，可以通過任意偏振的光束觀察到晶體(ti) 中的方向，由三階張量描述。忽略物理量的矢量性質，外部電場對晶體(ti) 折射率的影響具有以下形式其中 是折射率的變化，no 是未受擾動的折射率，r 是電光張量中的適當元素，E 是施加的電場。 即使在少數具有大電光係數的晶體(ti) 中，這種影響也很小。 例如，對铌酸鋰晶體(ti) 施加 106 V/m 的電場將產(chan) 生大約 0.01% 的分數指數變化。 很少看到分數指數變化大於(yu) 1%。體(ti) 調製器使用铌酸鋰、LiNbO3 和 KTP 製造電光幅度和相位調製器，這兩(liang) 種晶體(ti) 具有高電光係數和良好的光學和電學性能。這些晶體(ti) 生長 ...
音傳(chuan) 播介質的折射率的微小變化來工作。以連續波模式工作的1550nm激光二極管發出的1mW光束通過光纖發送到Fabry-Pérot標準具。腔內(nei) 壓力發生變化的那一刻，透射（以及反射）光強度的強度就會(hui) 被相應地進行調製。因為(wei) 對於(yu) 許多国产成人在线观看免费网站來說，使用單根光纖的簡單傳(chuan) 感器設置是第1選擇，所以對反射光進行監測。在普通光纖內(nei) 進出傳(chuan) 感器頭的光束使用光環行器分開，從(cong) 而可以監測傳(chuan) 感器的反射光。通常介質的折射率變化是非常小的，在標準條件下（室溫、環境壓力），如果壓力變化1Pa，空氣的折射率變化約3×10-9。然而，從(cong) 聲學的角度來看，1Pa的交變壓力（~1×10-5的環境壓力）已經相當響亮了，它大致相當於(yu) 有人在幾厘米的近 ...
小點厚度測量高數值孔徑目標問題嚴(yan) 重的問題是用於(yu) 確定薄膜厚度的幹涉信號的對比度降低。在高數值孔徑物鏡中，光線在膠片中以不同角度折射（見圖1），因此光線在膠片材料中的路徑長度不同。這意味著它們(men) 具有不同的相位差。一旦不同的光線組合在一起並且相位疊加在探測器上，相長幹涉峰/穀和相消幹涉峰/穀之間的對比度就會(hui) 減弱。這種影響的嚴(yan) 重程度取決(jue) 於(yu) 具體(ti) 的膠片疊層和數值孔徑。但是，一般來說，效果隨著厚度的增加而增加。圖 1 大數值孔徑(NA) 的小光斑測量NA 如何影響厚度測量在矽氧化物測量示例中很容易看出效果。 200nm氧化物的UVVis反射光譜（200-1000nm）的模擬如圖2 所示。它顯示光譜隨著NA 的 ...
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