雙光子聚合激光直寫(xie) 3D納米光刻機
MicroFAB-3D雙光子聚合3D納米光刻機是一款超緊湊、超高分辨率交鑰匙型3D打印機。雙光子聚合3D納米光刻機基於(yu) 雙光子聚合(TPP)激光直寫(xie) 技術，兼容多種高分子材料，包括生物材料。MicroFAB-3D 3D納米光刻機幫助您以亞(ya) 微米的分辨率生產(chan) 出前所未有的複雜的微部件，MicroFAB-3D的zui小特征尺寸可低至0.2um寬，為(wei) 微流體(ti) 、微光學、細胞培養(yang) 、微機器人或元材料領域開辟了新的前景。MicroFAB-3D具有開放性和適應性，可以滿足您的個(ge) 性需求。
雙光子聚合激光直寫(xie) 3D納米光刻機關(guan) 鍵特性：
較高的直寫(xie) 精度和分辨率(＜200nm)（已有客戶使用此設備實現低至67nm分辨率的結構）
直寫(xie) 速度快
兼容任何CAD模型和文件
兼容廣泛的聚合物，光刻膠，生物相容性材料，生物材料
緊湊的設計
適用於(yu) 層流架
適用於(yu) 無菌、無塵室以及工業(ye) 環境
雙光子聚合激光直寫(xie) 3D納米光刻機核心優(you) 勢：
新的TPP切片工具
複雜的3D結構下高直寫(xie) 速度
三維微零件無形狀限製
適用於(yu) 微部件、微流體(ti) 、超材料、細胞培養(yang) 、微機器人、微力學、組織工程、表麵結構或任何你可能擁有的微製造理念的技術。
雙光子聚合激光直寫(xie) 3D納米光刻機規格指標：
X,Y軸刻寫(xie) 分辨率 | 0.2-3µm可調，zui小≤50nm |
Z軸刻寫(xie) 分辨率 | 0.6-10µm可調 |
X,Y,Z軸刻寫(xie) 範圍 | 100-300µm |
| 拚接複製範圍(X,Y) | 75×25 mm²（標準版）；100×75 mm²（升級版） |
| 拚接精度 | 100nm |
zui大樣品高度(Z) | 20mm |
表麵粗糙度 | 20nm |
刻寫(xie) 掃描速度 | XY軸：高分辨率模式下100µm/s , 低分辨率模式下1.5mm/s Z軸：高分辨率模式下300µm/s , 低分辨率模式下5mm/s 10m/s除以物鏡放大倍率（例：100X物鏡下掃描速度為(wei) 100mm/s） |
激光波長 | 532nm（517nm, 780nm, 1064nm激光器可選） |
外觀尺寸 | L x W x H = 50cm x 50cm x 90cm |
雙光子聚合激光直寫(xie) 3D納米光刻機適用材料：
我們(men) 為(wei) 我們(men) 的雙光子聚合激光直寫(xie) 3D納米光刻機提供了10種zhuanli光刻膠，這些樹脂的各種性能允許您探索許多国产成人在线观看免费网站領域。
我們(men) 的係統可與(yu) 各種商業(ye) 上可用的光刻膠兼容，如Ormocomp, SU8, FormLabs樹脂，NOA-line樹脂，甚至水凝膠或蛋白質等。這些光刻膠可能是生物兼容的，甚至已被認證實現微型醫療設備。如果您想使用定製的、自製的聚合物，我們(men) 也可以幫助您調整係統以適應您的工藝。
他們(men) 在使用microFAB-3D：
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