中文：光致抗蝕劑；英文：photo resist

解釋
中文：光致抗蝕劑；英文：photo resist的原理；中文：光致抗蝕劑；英文：photo resist的定義；中文：光致抗蝕劑；英文：photo resist是什麽。
 簡稱“抗蝕劑”。又稱“光刻膠”。光照後能改變抗蝕能力的高分子化合物。分為正性光致抗蝕劑和負性光致抗蝕劑。正性光致抗蝕劑受光照部分發生降解反應而能為顯影液所溶解。負性光致抗蝕劑受光照部分產生交鏈反應而成為不溶物，非曝光部分能被顯影液溶解。