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傳(chuan) 統磁光薄膜的特性為(wei) 了在薄膜上獲得分離良好的磁性區域，在x射線光刻過程中使用掩膜，如圖1所示，然後通過離子束蝕刻去除薄膜的未保護部分。由於(yu) 需要確保垂直磁化方向，因此需要進行MOKE測量以檢查薄膜的質量。這種磁性表征是可能的，因為(wei) 這些薄膜的磁化方向對光偏振方向有很強的依賴性，並且薄膜與(yu) 背景反射率的比例很高。其他互補的表征技術，如反射高能電子衍射，通過指示外延生長，提供了對薄膜光學質量的進一步了解。x射線衍射研究表明材料是否具有晶體(ti) 織構，因為(wei) 通常需要具有高度織構且易於(yu) 磁化軸垂直於(yu) 薄膜的材料(圖2)。圖1圖2在這一點上，應該強調的是，傳(chuan) 統磁光薄膜的磁性是連續的，而其他磁性薄膜，如傳(chuan) 統磁性記錄磁帶中使 ...
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