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超連續介質激光作為顯微鏡器件光學表征的工具

發布時間:2024-12-05 10:40:09 瀏覽量:393 作者:Tom

摘要

本文講述使用超連續譜激光器進行材料光學表征,在用顯微鏡對器件進行表征時,輻照光束通過樣品後,被顯微鏡的檢測係統收集吸收或發射的光,生成光學圖像的簡述。

正文


超連續介質激光作為(wei) 顯微鏡器件光學表征的工具


摘要:本文講述使用超連續譜激光器進行材料光學表征,在用顯微鏡對器件進行表征時,輻照光束通過樣品後,被顯微鏡的檢測係統收集吸收或發射的光,生成光學圖像的簡述。


利用超連續介質激光器進行光學表征可以測量不同材料的基本參數,這是光學器件發展和正確性能的主要要求。


他們(men) 利用了材料的特性,即每個(ge) 分子都有自己的吸收和發射線,這取決(jue) 於(yu) 材料的電子結構。這意味著某個(ge) 分子要被激發或發光(即經曆躍遷),需要具有特定能量和波長的入射光。這個(ge) 能量需要匹配原子內(nei) 部激發態和低能級之間的能量差。


器件光學特性的顯微技術一些允許器件光學特性的技術涉及到顯微鏡的使用。顯微鏡有幾種類型,可以根據光線到達樣品的方式進行分類。因此,一些顯微鏡將使用寬視場輻射操作,而其他顯微鏡將通過定向光束掃描樣品表麵(即光片顯微鏡)。此外,其他配置包括使用掃描探針顯微鏡來分析感興(xing) 趣的表麵(即原子力顯微鏡掃描隧道顯微鏡)。在用顯微鏡對器件進行表征時,輻照光束通過樣品後,被顯微鏡的檢測係統收集吸收或發射的光,生成光學圖像。


一個(ge) 有趣的掃描探針配置的新興(xing) 領域是NSOM或近場掃描光學顯微鏡技術,它也被稱為(wei) SNOM或掃描近光學顯微鏡。它包括一種試圖克服阿貝衍射極限的方法,通過使用納米級纖維探針將光限製在一個(ge) 小區域內(nei) ,允許在亞(ya) 波長尺度上進行地形和光學成像。由於(yu) 這個(ge) 原因,NSOM已被證明是一種有用的技術,不僅(jin) 用於(yu) 生物學目的,而且用於(yu) 表征半導體(ti) 等不同材料。在這種類型的顯微鏡中,光通過探針傳(chuan) 遞或收集,該探針可以具有懸臂結構或纖維探針的結構。此外,探頭可以在光圈或無光圈模式下工作。在無孔徑模式下,AFM(原子力顯微鏡)探針被塗上一層金屬,以增強靠近其尖端的樣品部分的電磁場,並與(yu) 放置在遠場的外部光源結合使用以進行照明(圖1)。


圖1 :無光圈NSOM結構示意圖。外部光源照亮靠近懸臂頂端的部分樣品。散射回來的光被物鏡收集起來。


另一方麵,在孔徑模式下,光通過掃描探針傳(chuan) 遞或收集。有不同類型的利用孔徑探頭的NSOM技術。簡單的方法包括:反射NSOM(光從(cong) 樣品上方通過AFM探針傳(chuan) 遞,並收集反射光)(圖2a),收集NSOM(光束從(cong) 下方聚焦在樣品上,探針靠近表麵放置),使透射光通過它到達探測器)(圖2b)或透射NSOM(其中樣品通過探頭從(cong) 上方照射,並收集通過它透射的光)(圖2c)。


圖2:簡單孔徑NSOM結構示意圖。(一)反映NSOM。(b)收集NSOM。(c)傳(chuan) 輸NSOM。


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